Технология производства полупроводниковых приборов

Гаврилов Р. А., Скворцов А. М.
Технология производства полупроводниковых приборов. "Энергия" Л. 1968. 240 с. с рис.
Формат издания 145х215 мм (средний формат) Твердый переплет.
В книге рассматриваются основные технологические процессы, используемые в производстве полупроводниковых приборов и полу­проводниковых интегральных схем. Наибольшее внимание уделено процессам вплавления-рекристаллизации и диффузии, в результате проведения которых образуется электронно-дырочный переход. Планарной технологии, которая в последнее время стала ши­роко применяться как для изготовления различных типов крем­ниевых диодов и транзисторов, так и полупроводниковых инте­гральных схем, посвящена вторая часть книги. Здесь основное внимание уделено фотолитографии и получению пассивирующих слоев двуокиси кремния на кремнии, а также рассмотрены прин­ципы построения интегральных схем на основе полевых транзисто­ров типа металл - окисел - полупроводник.

Книга рассчитана на инженерно-технических работников, за­нимающихся конструированием и производством полупроводнико­вых приборов и интегральных схем. Она будет полезна также сту­дентам высших учебных заведений, специализирующихся в области полупроводниковой электроники.